Intel ลงทุนหลักพันล้านดอลลาร์ไปกับเทคโนโลยีที่มองไม่เห็น!

Intel บริษัทผู้ผลิตชิปสารกึ่งตัวนำที่ใหญ่ที่สุดในโลกกำลังเผชิญกับภัยคุกคามแบบเงียบๆ ตามที่กฏของมัวร์ (Moore's Law) ได้กล่าวไว้ว่า "ปริมาณของทรานซิสเตอร์บนวงจรรวมจะเพิ่มเป็นเท่าตัวประมาณทุก ๆ สองปี" โดยปัจจุบันทรานซิสเตอร์ที่อยู่ในชิปนั้นถูกพัฒนาให้มีประสิทธิภาพมากขึ้น ถูกออกแบบให้มีขนาดเล็กลงเพื่อประหยัดพื้นที่ นอกจากนั้นก็ยังถูกพัฒนาให้ประหยัดพลังงานด้วย จึงส่งผลให้คอมพิวเตอร์ในทุกวันนี้เร็วขึ้นและมีขนาดเล็กกว่าเมื่อเทียบกับคอมพิวเตอร์ในช่วงไม่กี่ทศวรรษที่ผ่านมา

แต่ความก้าวหน้าของเทคโนโลยีหลายอย่างก็มีขีดจำกัดของมันเองเช่นกัน อย่างที่นักฟิสิกส์บางคนได้กล่าวไว้ว่า Intel กำลังจะถึงขีดจำกัดตามที่กฏของมัวร์บอกไว้ โดย Intel กำลังอยู่บนปากเหวของความพยายามในการสร้างทรานซิสเตอร์ให้มีขนาดเล็กลงกว่านี้ ซึ่งถ้ามันเล็กลงกว่านี้ประสิทธิภาพการทำงานโดยรวมจะได้รับผลกระทบตามหลักกลศาสตร์ควอนตัม

Brian Krzanich ซีอีโอของ Intel กล่าวถึงเทคโนโลยีใหม่ ซึ่งยังพิสูจน์ไม่ได้ในตอนนี้ โดยมีชื่อเรียกว่า "extreme ultraviolet lithography" (EUV) ว่าสิ่งนี้คือทางออกซึ่งจะช่วยให้ Intel สามารถผลิตชิปที่มีขนาดเล็กลง เร็วขึ้น มีประสิทธิภาพมากขึ้น แต่ก่อนอื่นต้องทำออกมาให้ใช้งานได้จริงเสียก่อน

น่าเสียดายที่การพูดนั้นง่ายกว่าทำ...

Ultraviolet lithography เป็นเทคโนโลยีที่ช่วยให้บริษัท Intel ใช้ความยาวคลื่นของแสงมา "กัด" ลงบนแผ่นซิลิคอนเพื่อออกแบบชิปของพวกเขาให้เป็นไปตามแบบที่ต้องการ ซึ่งการทำแบบนี้เป็นกระบวนการผลิตที่เล็กเกินกว่าตามนุษย์จะมองเห็น ยิ่งความยาวคลื่นของแสงที่นำมาใช้เล็กมากเท่าไร การ "กัด" ก็จะเล็กลงชนิดละเอียดยิบมากขึ้นตามด้วย

ส่วน Extreme ultraviolet lithography ได้ตกเป็นเป้าหมายของ Intel มาตั้งแต่ปี 1997 เนื่องจากทางบริษัทเล็งเห็นว่ามันจำเป็น และในแวดวงอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ต่างรู้กันดีว่ากฏของมัวร์ยังใช้ได้จริง!

ความหวังของ Intel ที่จะพึ่งพา EUV เริ่มชัดเจนมากขึ้นในปี 2009 เมื่อ ASML บริษัทสัญชาติดัตช์ซึ่งเป็นผู้จำหน่าย photolithography system สำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์รายใหญ่ที่สุดในโลก ได้ออกมาเผยโฉมเครื่องจักรที่อาจจะสร้างความยาวคลื่นแสงที่เหมาะสมสำหรับกระบวนการผลิตทรานซิสเตอร์ที่มีขนาดเล็กมากๆ แต่รายละเอียดนั้นถูกเปิดเผยเพียงเล็กน้อยเท่านั้น นั่นเป็นส่วนหนึ่งของเหตุผลว่าทำไม Intel ถึงตัดสินใจที่จะลงทุนกับ ASML ด้วยเม็ดเงินมหาศาลถึง 4.1 พันล้านดอลลาร์สหรัฐฯ ไปเมื่อกลางปี 2012

มีความท้าทายและอุปสรรคมากมายสำหรับการทำให้ทรานซิสเตอร์มีขนาดเล็กลง แต่ Intel ก็ไม่ได้ย่ำอยู่กับที่ โดยล่าสุดก็มีการเผยโฉมชิป "Broadwell" ที่ใช้ทรานซิสเตอร์ขนาดเล็กเพียง 14 นาโนเมตรในกระบวนการผลิต โดยจะถูกนำไปใช้บนเครื่องคอมพิวเตอร์รุ่นต่อๆ ไปในอนาคต

Intel สัญญาว่าชิป Broadwell จะถูกส่งป้อนตลาดในช่วงต้นปี 2014 และแม้ว่าในปี 2015 Intel จะสามารถผลิตทรานซิสเตอร์ขนาด 10 นาโนเมตร หรือ 7 นาโนเมตรในปี 2017 แต่ทางบริษัทก็ไม่ได้ยืนยันว่าเทคโนโลยี EUV จะถูกนำมาใช้งานในกระบวนการผลิตเมื่อใด

หากเทคโนโลยี EUV ถูกนำมาใช้งานได้จริง ชิปในอนาคตที่มีกระบวนการผลิตขนาด 7 นาโนเมตร คงไม่ใช่เรื่องยากเย็นอะไรในเวลานั้น แต่หากเป็นกรณีที่ตรงกันข้าม Intel คงต้องหาวิธีการอื่นๆ มาทำให้อุปกรณ์ของตัวเองเร็วขึ้นหรือไม่ก็คงต้องหาเทคโนโลยีที่ใหม่กว่านี้มาใช้งานในวันที่ชิปของตัวเองเล็กจนไม่สามารถเล็กลงกว่านี้ได้อีกหรือพูดง่ายๆ คือเดินมาถึงทางตันแล้วนั้นเอง!

บทความที่เกี่ยวข้อง

• 
  vivo V30 Series สมาร์ทโฟนแสงเทพ ออร่าพอร์ตเทรด 3.0 เคาะวันเปิดตัวในไทย
• 
  HP Spectre x360 2024 ซีพียู Core Ultra ใช้งานได้แบบ 2 in 1 มีระบบ AI สุดอัจฉริยะ

ติดตามข่าว สยามโฟน.คอม ที่